智能臺式涂布機TC-100S在硅晶片上涂布技術

目前鋰電池極片涂布過程中NMP回收系統(tǒng)的結構面臨很大問題,其中包含了真空以及紅外輻射加熱技術。針對真空系統(tǒng),分析了其對涂布機工藝的影響,通過對NMP回收系統(tǒng)的烘干需求分析,采用層次分析法確定了適合本系統(tǒng)的紅外輻射加熱器類型;對回收氣態(tài)NMP過程進行了數(shù)值模擬,得到了系統(tǒng)流暢性能的仿真結果;通過紅外輻射加熱器加熱極片的多組小實驗及數(shù)據(jù)圖表對烘干的時間、布置方式等參數(shù)進行了確定。對NMP溶劑的回收穩(wěn)定及效率、干燥的效果及極片導電性能有重大的影響。 

儀器性能介紹：

它使用涂布線棒在基材如薄膜，紙，金屬箔，玻璃或硅晶片上進行均勻涂布。與手工涂布相比，TC-100S自動涂膜器在使用過程中速度，厚度均勻，并且在涂布后易于清潔。基板用真空吸盤固定，該吸盤是標準附件，      

可以通過一個按鈕輕松固定基板。  

TC-100S 涂布機特點 

- 標配安裝真空吸床固定涂膜基板

· 由于TC-100S尺寸很小，可以在通風櫥或手套箱內(nèi)使用。

· 大涂布尺寸可達 W100mm×D160mm

· 適合各品牌規(guī)格涂布線棒

- 使用旋鈕設置驅(qū)動速度，只需一個按鈕即可輕松實現(xiàn)前進/停止/后退操作

線棒涂布器的安裝

TC-100S 涂布機技術規(guī)格 

產(chǎn)品名稱 ：          臺式涂布機

※請另外準備涂膜夾具

可動速度 ：          0.2-85mm /秒              

大涂膜距離 ：             160毫米x 100毫米

涂膜面積：          W100mm×D160mm

尺寸 ：           （寬）220mm x（深）352mm（高）216mm

重量 ：            約8公斤

電源 ：            AC100-240V 50 / 60Hz 200VA