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產(chǎn)品型號： Ultra Apex Mill Advance
所屬分類：
產(chǎn)品時間：2024-09-06
簡要描述：日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV在我們的產(chǎn)品線中，損傷分散小的珠磨機(jī)。針對“超低損傷納米顆粒分散體"進(jìn)行了優(yōu)化的濕微珠磨機(jī)，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進(jìn)行低沖擊攪拌的設(shè)備，這是一種先進(jìn)的寬分離器三角磨機(jī)。
日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV
一liu的超低沖擊濕法微珠磨機(jī)，用于納米分散
在我們的產(chǎn)品線中，損傷分散小的珠磨機(jī)。針對“超低損傷納米顆粒分散體”進(jìn)行了優(yōu)化的濕微珠磨機(jī)，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進(jìn)行低沖擊攪拌的設(shè)備，這是一種先進(jìn)的寬分離器三角磨機(jī)。
帶有新設(shè)計的平面攪拌器/珠分離轉(zhuǎn)子的濕珠磨機(jī)可實現(xiàn)低離心力處理。通過減小從珠粒到納米顆粒的沖擊力，同時保持珠粒的足夠的攪拌速度，在維持每單位珠粒量的加工速度的同時，對納米顆粒的損害小化。
另外，為了滿足xin的納米分散需求，轉(zhuǎn)子設(shè)計使研磨機(jī)中珠粒的攪拌能量均勻，從而可以進(jìn)行均勻的分散處理。
1.可以分散gao級別超低損傷納米顆粒的珠磨機(jī)！
珠磨機(jī)，即使使用軟顆?；蚣{米顆粒的漿液，也可以進(jìn)行超低沖擊處理，并且可以進(jìn)行納米分散處理且損傷小。它可以用于分散軟納米顆粒，例如100 nm級鈦酸鋇和有機(jī)顏料，而傳統(tǒng)的珠磨機(jī)無法對其進(jìn)行適當(dāng)處理。
2.通過分散處理納米顆粒漿料抑制粘度和凝膠化的增加！
這是一種珠磨機(jī)，可以將由于顆粒破壞而產(chǎn)生的細(xì)小碎片抑制到小，即使使用納米顆粒也可以抑制漿料的粘度和凝膠化。在確保漿料的流動性和改善長期保存期間的產(chǎn)品漿料的穩(wěn)定性方面是有效的。
3.納米粒子的粒度分布可以變得更銳利！
由于在珠磨機(jī)中的攪拌功率高度均勻，因此在漿料中的分散度均勻，并且可以抑制顆粒碎屑，因此即使使用幾十nm的納米顆粒，也可以獲得清晰的粒徑分布。可以提高產(chǎn)品性能，并且可以在批量生產(chǎn)條件下復(fù)制產(chǎn)品設(shè)計時預(yù)期的產(chǎn)品性能。
可用磁珠直徑
Φ15μm?Φ0.3毫米
珠粒分離器圓周速度
6m /秒至18m / s
高粘度支撐
光學(xué)材料（氧化鋯和二氧化硅在樹脂原料中的納米分散體），導(dǎo)電涂料，化妝品（氧化鈦和氧化鋅在油中的分散體）等。
支持低損傷擴(kuò)散
電子材料（鈦酸鋇，中空二氧化硅），電極材料（納米銀，鎳等），熱射線阻擋材料（ITO等），光催化劑（氧化鈦），
液晶顏料等。
日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV
| 產(chǎn)品名稱 | 大綱 | 可用磁珠直徑 |
|---|---|---|
| 頂點磨 | 濕式研磨珠磨機(jī) 立式濕式研磨珠磨機(jī)，可有效處理微米至亞微米級的研磨 | φ0.3毫米?φ5毫米 |
| 超尖磨機(jī) | *yi臺 微珠磨粉機(jī)納米珠磨粉機(jī)的標(biāo)準(zhǔn)模型， 可以使用小直徑為15μm的微珠 粉，它是一種納米粉碎和納米分散的微珠磨粉機(jī)。 | φ15?1毫米 |
| 雙頂點磨 | 濕式微珠研磨機(jī)， 用于雙軸微珠研磨和納米顆粒分散，特別是用于低損傷的納米顆粒分散 | φ15?1毫米 |
| 寬分離器 Apex Mill | 高流量高粘度珠磨機(jī) 濕式微珠磨機(jī)，與使用微珠的高流速和高粘度納米顆粒分散體兼容 | φ15?0.3毫米 |
| Ultra Apex Mill Advance | 超低損傷納米分散機(jī) 高檔超低沖擊納米分散濕法微球磨機(jī) | φ15?0.3毫米 |
| Apex Mill F＆M | 用于藥品，食品和化妝品的無 密封 珠磨機(jī)，適用于粉碎有機(jī)物質(zhì)。珠磨機(jī) 省略了機(jī)械密封，以提高清潔性并防止污染， 尤其適用于納米級制藥 | φ0.1毫米?φ5毫米 |
